氫氟酸和硅反應的離子方程式是：Si+4HF=SiF4+2H2(H2後面加氣體符號）。氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液，清澈，無色、發煙的腐蝕性液體，有劇烈刺激性氣味。熔點-83.3℃，沸點112.2℃，密度0.888g/cm³。
易溶於水、乙醇，微溶於乙醚。
因為氫原子和氟原子間結合的能力相對較強，使得氫氟酸在水中不能完全電離，所以理論上低濃度的氫氟酸是一種弱酸。
具有極強的腐蝕性，能強烈地腐蝕金屬、玻璃和含硅的物體。
如吸入蒸氣或接觸皮膚會造成難以治癒的灼傷。
實驗室一般用螢石（主要成分為氟化鈣）和濃硫酸來製取，需要密封在塑料瓶中，並保存於陰涼處。
